SiliconStrategies laat weten dat het Nederlandse ASMI uit Bilthoven (niet te verwarren met ASML uit Veldhoven) waarschijnlijk de apparatuur aan Intel gaat leveren voor de productie van strained silicon. Halverwege 2003 zullen chips gebakken met het 0,09 micron procédé dit materiaal als basis gebruiken. De Nederlanders maakten bekend dat de productie van de Epsilon 3000 epitaxial reactor is opgeschroefd en dat het aan twee grote spelers in de V.S. zal gaan leveren. Er is bijna geen twijfel over mogelijk dat het over Intel en IBM gaat. In de reactor worden onder streng reguleerde druk en temperatuur de verschillende lagens van de wafers gevormd. De order betekent goed nieuws voor het bedrijf, dat het afgelopen kwartaal bekend maakte 6,4 miljoen verlies te hebben geleden:
At the same time, the Santa Clara, Calif.-based chip giant reportedly is using ASMI's Epsilon 3000 reactor as the high volume tool for strained silicon production, according to analysts. The 300-mm tool is equipped with additional reactor gas flow and temperature control refinements, which are geared for the uniformity of layers in the sub-10-nm thickness regime.
"The acceleration of major IC manufacturers to implement a form of strained silicon at the 90-nm node and begin production on 300-mm wafers next year comes as no surprise to ASM,” said Armand Ferro, epitaxy business unit manager at ASMI, in a statement.